低圧プラズマ洗浄装置のご紹介

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低圧プラズマ洗浄装置
プラズマ処理/プラズマ洗浄用

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electric diener

表面洗浄、表面処理、表面改質、エッチング、アッシング等に最適な低圧プラズマ装置です。手軽にプラズマを発生させることが可能で、研究開発、試作、少量生産、学術研究目的に最適な装置です。

ドイツDiener (ディエナー)Electronic社は1993年に設立され、研究開発・少量処理用の小型モデルを始め、大型処理機までを幅広く取り扱っており、既に国内でも半導体、自動車関連アプリケーションを始め、様々な業界にて納入実績がございます。

チャンバー容量は、研究開発向けの小型チャンバー(2リットル)から、量産向けの大型チャンバーモデル、リール・トゥ・リールタイプ等も製造しております。

小型実験室向け低圧プラズマ用モデルの”Femto”は、ヨーロッパを中心に700台以上の納入実績を誇ります。

低圧プラズマ洗浄装置

大気圧プラズマ洗浄装置

低圧プラズマ処理装置



低圧プラズマ処理装置(プラズマ洗浄装置) FEMTO

容積2リットルで、研究開発に最適な真空40KHzプラズマ洗浄装置です。プラズマ処理設定の導入機として、また試作・開発・実験用としてヨーロッパを中心に700台以上が稼働中です。   

 主な用途 

半導体・電子部品関連の研究開発、解析(SEM、TEM)、医療、殺菌、消毒、考古学、繊維製品の処理、合成樹脂での接着力改善、洗浄、活性化、等

 特 徴 

  • 電源投入後数十秒でプラズマ処理が可能になります。
  • 小型・軽量(20kg)、シンプルなボタン操作で誰にでも簡単にプラズマ処理が可能です。
  • 真空チャンバー内の電極板と試料棚の寸法と組み合わせを変更することにより、様々な寸法のワークの処理に対応します。

低圧プラズマ洗浄装置 FEMTO

電極板、試料棚



低圧プラズマ洗浄/プラズマ処理装置 PICOシリーズ

容積5 リットルで、少量生産や研究開発に最適な真空40KHzプラズマ装置です。オプションで13.56MHz、2.45GHzにも対応します。

 主な用途 

各種少量生産、半導体・電子部品関連の研究開発、解析(SEM、TEM)、医療、殺菌、消毒、考古学、繊維製品の処理、合成樹脂での接着力改善、洗浄、活性化、等

 PICO ロータリーデバイス 

チャンバー内に回転式のドラムまたはボトルを装備したモデルです。
トレーに並べたりカゴに入れると接触部分に処理が出来ない場合に回転させることで影になる部分も処理が出来ます。
ボトルを使用すれば粉末やペレットなども処理が出来ます

PICO

PICO ロータリーデバイス



低圧プラズマ処理装置 NANOシリーズ

チャンバー容積24リットルで、各種生産・試作開発等に対応可能な半自動制御方式のプラズマ装置。洗浄、活性化、エッチング、成膜に対応します。

 主な用途 

半導体・電子部品関連の研究開発、医療分野、プラスチック、高分子弾性体等

 NANO 特別仕様 

ロータリーデバイス仕様他、各種のオプションを組み込み可能です。
半導体プロセス開発向けエッチング装置、レジストアッシング装置等対応可能。

NANO

NANO 特別仕様



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主な仕様


大気圧(常圧)プラズマ装置 Plasma Beam

装置本体寸法 562 x 420 x 211mm (W x D x H)
供給ガス

2系統
(プラズマ処理用ガス及び冷却用ガス)

プラズマ用電源

20KHz/300W
ペン部分寸法 直径32mm x 長さ210mm、重量500g

プラズマヘッド部長さ

長さ 3m

プラズマ照射幅

幅 約12mm
制御方式 スイッチON/OFFによるマニュアル操作
またはPCリモートコントロール操作


低圧プラズマ装置 Femto

真空チャンバー容量 約2リットル(内径100mm x 長さ270mm)
供給ガス 2系統(ニードルバルブ)
プラズマ用電源 40KHz/100W
電極板/試料棚 真空チャンバ-内に各1個
制御方式 タイマーによる時間設定/PC制御
真空ポンプ(付属品) ロータリーポンプ 2.5m3/h相当
オプション 耐腐食性ガス配管、13.56MHz電源への交換
RIEモード用電極、ガラスチャンバー


低圧プラズマ装置 PICO

真空チャンバー容量 PICO : 約5リットル(内径150mm x 長さ320mm)
供給ガス 2系統(ニードルバルブ)
プラズマ用電源 40KHz/200W 無段階調整
(オプション:13.56MHz、2.45GHz)
制御方式 タイマーによる時間設定
真空ポンプ 4m3/h相当
オプション 耐腐食性ガス配管、RIEモード用電極
各種ガラスチャンバー(PICO UHP)


低圧プラズマ装置 NANO

真空チャンバー容量 NANO : 約24リットル(内径267mm x 長さ420mm)
供給ガス 2系統
プラズマ用電源 40KHz/300W 無段階調整
(オプション:13.56MHz, 2.45GHz)
制御方式 タイマーによる時間設定/PC制御
真空ポンプ 8m3/h相当
オプション 耐腐食性ガス配管、RIEモード用電極
各種ガラスチャンバー(NANO UHP)

※上記仕様は製品改良のため予告無く変更されることがございます。

上記製品以外にも、量産向けの大型チャンバーモデル、リール・トゥ・リールタイプなど、
各種モデルを取り扱っております。
詳細につきましては担当者までお問い合わせ下さい。


リール・トゥ・リールシステム リール・トゥ・リールシステム

リール・トゥ・リールシステム


TETRA-2800

TETRA-


Tetra-12.600-LF-PC Tetra-12.600-LF-PC

Tetra-12.600-LF-PC



大気圧プラズマ処理装置PlasmaBeamについてはこちらをご覧下さい

大気圧・低気圧プラズマ表面処理装置のお問い合わせ

大気圧・低気圧プラズマ表面処理装置および関連製品についてのお問い合わせ・デモ機でのご評価等の
ご用命は、下記担当者までお気軽にお問い合わせ下さい。

営業担当:電子材料・機器グループ
TEL:03-3492-7430/FAX:03-3492-2580

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