プラズマ装置（低圧タイプ） プラズマ処理/プラズマ洗浄用 　表面洗浄、表面処理、表面改質、エッチング、アッシング等に最適な低圧プラズマ装置です。手軽にプラズマを発生させることが可能で、研究開発、試作、少量生産、学術研究目的に最適な装置です。 　ドイツDiener （ディエナー）Electronic社は1993年に設立され、研究開発・少量処理用の小型モデルを始め、大型処理機までを幅広く取り扱っており、既に国内でも半導体、自動車関連アプリケーションを始め、様々な業界にて納入実績がございます。 　チャンバー容量は、研究開発向けの小型チャンバー（2リットル）から、量産向けの大型チャンバーモデル、リール・トゥ・リールタイプ等も製造しております。 　低圧プラズマ用モデルの”Femto”は、ヨーロッパを中心に700台以上の納入実績を誇ります。

低圧プラズマ処理装置（プラズマ洗浄装置）　FEMTO 　容積2リットルで、研究開発に最適な真空40KHzプラズマ洗浄装置です。プラズマ処理設定の導入機として、また試作・開発・実験用としてヨーロッパを中心に700台以上が稼働中です。 主な用途 　半導体・電子部品関連の研究開発、解析（SEM、TEM)、医療、殺菌、消毒、考古学、繊維製品の処理、合成樹脂での接着力改善、洗浄、活性化、等 特　徴 ・電源投入後数十秒でプラズマ処理が可能になります。 ・小型・軽量（20kg）、シンプルなボタン操作で誰にでも簡単にプラズマ処理が可能。 ・真空チャンバー内の電極板と試料棚の寸法と組み合わせを変更することにより、様々な寸法のワークの処理に対応 　 低圧プラズマ洗浄/プラズマ処理装置　PICO/PICO UHP 　容積5 リットルで、少量生産や研究開発に最適な真空40KHzプラズマ装置です。オプションで13.56MHz、2.45GHzにも対応します。 主な用途 　各種少量生産、半導体・電子部品関連の研究開発、解析（SEM、TEM)、医療、殺菌、消毒、考古学、繊維製品の処理、合成樹脂での接着力改善、洗浄、活性化、等 PICO　UHP 　チャンバー容積4リットル、チャンバー素材が石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスのモデルです。クロム、ニッケル、鉄による汚染が問題になるアプリケーションに最適です。 　 低圧プラズマ処理装置　NANO/NANO UHP 　チャンバー容積24リットルで、各種生産・試作開発等に対応可能な半自動制御方式のプラズマ装置。洗浄、活性化、エッチング、成膜に対応します。 主な用途 　半導体・電子部品関連の研究開発、医療分野、プラスチック、高分子弾性体等 NANO　UHP 　チャンバー容積18リットル、チャンバー素材が石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスのモデルです。クロム、ニッケル、鉄による汚染が問題になるアプリケーションに最適です。 　 お問い合わせ・資料請求フォームはこちら 主な仕様 大気圧（常圧）プラズマ装置 Plasma Beam 装置本体寸法 562 x 420 x 211mm (W x D x H) 供給ガス 2系統 （プラズマ処理用ガス及び冷却用ガス） プラズマ用電源 20KHz/300W ペン部分寸法 直径32mm x 長さ210mm、重量500g 接続コード 長さ　3m プラズマ照射幅 幅 約12mm 制御方式 スイッチON/OFFによるマニュアル操作 またはPCリモートコントロール操作 低圧プラズマ装置　Femto 真空チャンバー容量 約2リットル（内径100mm x 長さ270mm） 供給ガス 1系統（ニードルバルブ） プラズマ用電源 40KHｚ/100W 電極板/試料棚 真空チャンバ－内に各1個 制御方式 タイマーによる時間設定 真空ポンプ（付属品） ロータリーポンプ　1.5m3/ｈ相当 オプション 耐腐食性ガス配管、13.56MHｚ電源への交換 RIEモード用電極、ガラスチャンバー 低圧プラズマ装置　PICO/PICO UHP 真空チャンバー容量 PICO　:　　　　約5リットル（内径150mm x 長さ320mm） PICO UHP　:　約4リットル（内径130mm x 長さ300mm） 供給ガス 2系統（ニードルバルブ） プラズマ用電源 40KHｚ/200W　無段階調整 （オプション：13.56MHz、2.45GHz) 制御方式 タイマーによる時間設定 真空ポンプ 2.5m3/ｈ相当 オプション 耐腐食性ガス配管、RIEモード用電極 各種ガラスチャンバー（PICO　UHP) 低圧プラズマ装置　NANO/NANO UHP 真空チャンバー容量 NANO　：　　　　約24リットル（内径267mm x 長さ420mm） NANO UHP　：　約18リットル（内径240mm x 長さ400mm） 供給ガス 2系統（ニードルバルブ） プラズマ用電源 40KHｚ/300W 無段階調整 （オプション：13.56MHz, 2.45GHz) 制御方式 タイマーによる時間設定 真空ポンプ 8m3/ｈ相当 オプション 耐腐食性ガス配管、RIEモード用電極 各種ガラスチャンバー（NANO　UHP） 　*上記仕様は製品改良のため予告無く変更されることがございます。 上記製品以外にも、量産向けの大型チャンバーモデル、 リール・トゥ・リールタイプなど、各種モデルを取り扱っております。 詳細につきましては担当者までお問い合わせ下さい。 リール・トゥ・リールシステム TETRA-600-LF-PC Tetra-12.600-LF-PC 大気圧プラズマ処理装置PlasmaBeamについてはこちらをご覧下さい 製品についてのお問い合わせ・デモ機でのご評価等の ご用命は下記担当者までお気軽にお問い合わせ下さい。 営業担当:電子材料・機器グループ TEL:03-3492-7430／FAX:03-3492-2580 お問い合わせ・資料請求フォームはこちら