プラズマ装置/プラズマ表面処理
低圧プラズマ処理装置

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低圧プラズマ処理装置

FEMTO ベーシックPC
FEMTO ベーシックPC
低圧プラズマ放電
PICO セミオート

低圧プラズマ装置 NANO
NANO フルPC


特長
  • 電子基板、ガラス基板、金属基板、プラスチック素材、粉体材料など、様々な材料のプラズマ処理が可能です。
  • 親水性改善、撥水膜の成膜、ドライクリーニング、アッシング、パウダートリートメント等の様々なプロセスに対応可能です。
  • 手軽に安定したプラズマを発生させることが可能です。
  • 研究開発、試作だけでなく、量産ラインへの導入実績も多数あります。
  • 150Lを超える巨大チャンバーの導入実績もあります。
  • ご要望に応えて様々な容量のプラズマチャンバーをご提供できます。
対象製品

電子デバイス、電子基板、繊維、プラスチック、粉体(パウダー)

用途

親水化、撥水性膜の成膜、ドライクリーニング、アッシング、パウダートリートメント

工程

実験、量産試作、量産製造

仕様
  FEMTO PICO NANO
装置寸法 幅345 奥行420 高さ210 幅560 奥行500 高さ330 幅560 奥行600 高さ600
チャンバー形状 円筒形 直方体 円筒形 直方体 円筒形 直方体
チャンバー材質 ステンレス/ガラス
/クォーツ
ステンレス/ガラス
/クォーツ
ステンレス/ガラス
/クォーツ
チャンバー寸法
(mm)
100φ×278 100×100
×278
150φ×320 150×150
×320
267φ×420 267×267
×420
チャンバー容積 約2リットル 約5リットル 約24リットル
プラズマ周波数 40KHz / 13.56MHz
/2.45GHz
100KHz / 13.56MHz
/ 2.45GHz
100KHz / 13.56MHz
/ 2.45GHz
制御方法 セミオート/ベーシックPC
/フルPC
セミオート/ベーシックPC
/フルPC
セミオート/ベーシックPC
/フルPC
動画
Pico

Nano

Tetra 2800Lチャンバー

実験用低圧プラズマ装置

実験研究用途に最適な小型プラズマ装置もご用意しております。 取扱いが簡単で、低価格でのご提供が可能です。

YOCTO Ⅲ
YOCTO Ⅲ

ZEPTO
ZEPTO

ATTO
ATTO

特長
  • 電子基板、ガラス基板、金属基板、プラスチック素材、粉体材料など、様々な材料のプラズマ処理が可能です。
  • アプリケーションとして、親水化向上、ドライクリーニング等に対応可能です。
  • 手軽にプラズマを発生させることが可能で、研究開発、試作だけでなく大学の実験装置としても導入実績があります。
対象製品

電子デバイス、電子基板、金属部品、ガラス部品、プラスチック部品、繊維

工程

研究開発、実験

仕様
  YOCTO Ⅲ ATTO ZEPTO
装置寸法 幅320 奥行420 高さ220 幅425 奥行450 高さ275 幅425 奥行450 高さ185
チャンバー形状 円筒形 円筒形 円筒形
チャンバー材質 ガラス ガラス ガラス/クォーツ
チャンバー寸法
(mm)
50φ×150 211φ×300 105φ×300
チャンバー容積 約0.3リットル 約10.5リットル 約26リットル
プラズマ周波数 100KHz 40KHz 40KHz
制御方法 セミオート セミオート セミオート
動画
ZEPTO動画

プラズマ装置/プラズマ表面処理関連製品

プラズマ装置/プラズマ表面処理のお問合わせ

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エレクトロニクスグループ(旧電子材料・機器グループ)
TEL:03-3492-7430
FAX:03-3492-2580

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