プラズマ装置/プラズマ表面処理
低圧プラズマ処理装置（真空プラズマ処理装置）

deiner electronics

低圧プラズマ処理装置（真空プラズマ処理装置）

Tetra100
Tetra2800
概要

diener社の低圧プラズマ装置（真空プラズマ処理装置）はプロセスガスに電圧を印加しプロセスガスを励起させます。その結果、プラズマを構成する高エネルギーのイオン・電子・その他の反応性粒子が生成されます。これを利用して物体の表面の改質を効果的に行うことができます。用途は接着性の改善や印刷のインク密着性の改善、部品表面や基板等のクリーニング、粉体処理、アッシングなどに使われています。その対象となる素材はプラスチック素材各種、ガラス、金属、電子部品、各種粉体などがあります。

特長
  • 様々な周波数帯、チャンバーの材質を選択でき、ご用途に応じた仕様での提供が可能です。
  • 電子基板、ガラス基板、金属基板、プラスチック素材、粉体材料など、様々な材料のプラズマ処理が可能です。
  • 親水性改善、撥水膜の成膜、ドライクリーニング、アッシング、パウダートリートメント等の様々なプロセスに対応可能です。
  • 研究開発、試作だけでなく、量産ラインへの導入実績も多数あります。
  • 150Lを超える巨大チャンバーの導入実績もあります。
  • ご要望に応えて様々な容量のプラズマチャンバーをご提供できます。
対象製品

電子デバイス、電子基板、繊維、プラスチック、粉体（パウダー）

用途

親水化、撥水性膜の成膜、ドライクリーニング、アッシング、パウダートリートメント

低圧プラズマ装置

製品ラインナップ

実験用装置

ZEPTO One
Zepto One
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ZEPTO
Zepto
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Atto
Attto
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汎用装置
Femto
Femto
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PicoPico
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Nano
Nano
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Tetra30
Tetra30
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Tetra100
Tetra100
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Tetra150
Tetra150
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仕様

型式
Zepto One
Zepto
Atto
筐体 Zepto One Zepto Atto
装置寸法（㎜） W269 D324 H176 W425 D450 H185 W525 D450 H275
チャンバー材質 ホウケイ酸ガラス ホウケイ酸ガラス ホウケイ酸ガラス
チャンバー形状 円筒形 円筒形 円筒形
チャンバー寸法(㎜) φ105×D200 φ105×D300 φ211×D300
チャンバー容積 約1.7リットル 約2.6リットル 約10.5リットル
プラズマ周波数/出力
  • 100KHz/0-30W
  • 13.56MHz/0-30W
  • 40KHz/0-100W
  • 13.56MHz/0-200W
  • 40KHz/0-200W
  • 13.56MHz/0-300W
制御方法 セミオート制御 セミオート制御
PC制御（タッチパネル）		 セミオート制御
PC制御（タッチパネル）
型式
Femto
Pico
Nano
筐体 Femto Pico Nano
装置寸法(㎜) 卓上型：
W310～560、D420～600、H211～860
スタンドアローン型：
W600 D800 H1910
※仕様に依存 		卓上型：
W560、D500～600、H330～860
スタンドアローン型：
W600 D800 H1910
※仕様に依存 		卓上型：
W560、D800、H600～860
スタンドアローン型：
W600 D800 H1910
※仕様に依存
チャンバー材質 ステンレス/アルミニウム/
ホウケイ酸ガラス/クオーツガラス		 ステンレス/アルミニウム/
ホウケイ酸ガラス/クオーツガラス		 ステンレス/アルミニウム/
ホウケイ酸ガラス/クオーツガラス
チャンバー形状 円筒形 直方体 円筒形 直方体 円筒形 直方体
チャンバー寸法(㎜)
  • ホウケイ酸ガラス：
    φ95×D280
  • クォーツガラス：
    φ95×D280
  • ステンレス：
    W103×D285×H103
  • アルミ：
    W110×D300×H120
  • ホウケイ酸ガラス：
    φ130×D300
  • クォーツガラス：
    φ130×D300
  • ステンレス：
    W160×D325×H160
  • アルミ：
    W150×D325×H160
  • ホウケイ酸ガラス：
    φ240×D400
  • クォーツガラス：
    φ240×D400
  • ステンレス：
    W240×D420×H240
  • アルミ：
    W240×D420×H240
チャンバー容積 約2~3リットル ※仕様に依存 約5~8リットル ※仕様に依存 約18~24リットル ※仕様に依存
プラズマ周波数/
  • 40KHz/0-100W
  • 100KHz/0-200W
  • 13.56MHz/0-200W
  • 2.45GHz/0-300W
  • 40KHz/0-200W
  • 100KHz/0-200W
  • 13.56MHz/0-200W
  • 2.45GHz/0-300W
  • 100KHz/0-500W
  • 80KHz/0-1000W
  • 13.56MHz/0-300W
  • 2.45GHz/0-600W
制御方法 セミオート制御
PC制御（タッチパネル）		 セミオート制御
PC制御（タッチパネル）		 セミオート制御
PC制御（タッチパネル）
型式
Tetra30
Tetra100
Tetra150
筐体 Tetra30 Tetra100 Tetra150
装置寸法（㎜） W600 D800 H1910 W600 D800 H1910 （スタンダード）W600 D800 H2100
（ワイド）W870 D1000 H1910
チャンバー材質 ステンレス/アルミニウム/
ホウケイ酸ガラス/クオーツガラス		 ステンレス/アルミニウム/
ホウケイ酸ガラス/クオーツガラス		 ステンレス/アルミニウム/
チャンバー形状 円筒形 直方体 円筒形 直方体 円筒形 直方体
チャンバー寸法（㎜）
  • ホウケイ酸ガラス：
    φ305×D400
  • クォーツガラス：
    φ300×D430
  • ステンレス（ショート）：
    W305×D370×H305
  • ステンレス（ロング）：
    W305×D625×H300
  • アルミ（ショート）：
    W305×D370×H300
  • アルミ（ロング）：
    W305×D620×H300
  • ホウケイ酸ガラス：
    φ400×D400
  • クォーツガラス：
    φ400×D400
  • ステンレス：
    W400×D625×H400
  • アルミ：
    W400×D625×H400
  • ステンレス：
    W400×D625×H600
  • アルミ：
    W400×D625×H600
  • アルミ：
    W600×D625×H400
チャンバー容積 約28~50リットル ※仕様に依存 約50~100リットル ※仕様に依存 約150リットル
プラズマ周波数/
  • 40KHz/0-1500W
  • 80KHz/0-1000W
  • 80KHz/0-3000W
  • 13.56MHz/0-200W
  • 13.56MHz/0-300W
  • 2.45GHz/0-850W
  • 80KHz/0-1000W
  • 80KHz/0-3000W
  • 13.56MHz/0-300W
  • 13.56MHz/0-600W
  • 13.56MHz/0-1000W
  • 2.45GHz/0-850W
  • 80KHz/0-1000W
  • 80KHz/0-3000W
  • 13.56MHz/0-300W
  • 13.56MHz/0-600W
  • 13.56MHz/0-1000W
  • 2.45GHz/0-850W
制御方法 PC制御（タッチパネル） PC制御（タッチパネル） PC制御（タッチパネル）
動画
ZEPTO
PICO
NANO

製品ラインナップ（大型チャンバー）

Diener社のプラズマ装置は、チャンバーのサイズ容量に制限なく装置を設計・製造できます。
大型サイズのワーク処理をご希望の場合はお申し付けください。

大型モデル例
Tetra1440
Tetra1440
Tetra2800
Tetra2800
動画

チャンバー仕様

チャンバーは、多段式トレーやロータリードラム仕様といったオプションに対応しています。多段式トレー仕様で多量の製品を同時に処理可能、ロータリードラム仕様で小型部品をバルクで処理できます。
詳しくはお問い合わせください。

多段式トレーチャンバー
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ロータリードラムチャンバー
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粉体プラズマ装置

粉体や、ミクロンサイズの材料、部品等をバルクでプラズマ処理をして親水化することができます。 数g単位で処理できる実験・少量生産用の小型装置や、数kg単位で処理可能な量産用の大型粉体プラズマ装置まで取り揃えています。
性粉末やプラスチック粉末など様々な粉体のプラズマ処理を行うことができ、プラズマ中で粉体を高効率に撹拌することで、効果的に粉体親水性を付加することが可能です。粉体をプラズマ処理により表面改質をすることで濡れ性が向上し、溶剤などの均一分散化を図ることができます。
詳しくはお問い合わせください。


プラズマ未処理品（左）とプラズマ処理品（右）の粉末を水に溶かしたもの

インライン低圧プラズマ装置

処理するワークのサイズや量などに応じてインライン仕様の設計も可能です。インライン式低圧プラズマシステムは、既存の生産ラインに組み込むことができます。プラズマプロセスを自動化することで、ラインの生産性を向上できます。

インライン低圧プラズマ装置

動画

カタログダウンロード

Diener社製プラズマ装置のカタログを下記よりダウンロードいただけます。

プラズマ装置カタログ
プラズマ装置 カタログ

プラズマ装置/プラズマ表面処理関連ページ

プラズマ装置/プラズマ表面処理関連

お問い合わせ

製品やサービスについてのご質問・ご要望等ございましたら、下記のフォームにてお気軽にお問い合わせください。

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